Ims tayyorlash texnologiyasi. Ims aktiv va passiv elementlari


Download 136.5 Kb.
bet1/7
Sana21.01.2023
Hajmi136.5 Kb.
#1107251
  1   2   3   4   5   6   7
Bog'liq
2-ma\'ruza
laboratoriya ishi-4, 1-labaratoriya ishi, Axborot texnologiyalari, Дилноза Мансуровна, Бизнес бошкарув асослари ON-1, Yo, teylor formulasi, Bayroq, ingliztili, 123, 102-Glebov, Mustaqil KTE BEKTOSHEVA, Wordda ishlanishi (1), Alijon, 1

2, 3 – ma’ruza


IMS TAYYORLASH TEXNOLOGIYASI. IMS AKTIV VA PASSIV ELEMENTLARI


Reja: IMSlarni tayyorlash texnologiyalari
IMS tayyorlash jarayonlari
IMS asosiy parametrlari


Tayyorlov operatsiyalari. YArimo‘tkazgich IMSlar tayyorlash uchun asosiy material bo‘lgan - kremniy monokristal quymalari olishdan boshlanadi. Monokristal quymalar hosil qilishning bir qancha usullari mavjud.
CHoxralskiy usulida tarkibiga donor yoki akseptor kiritmalar qo‘shilgan o‘ta toza kremniy eritmasi yuziga kremniy monokristali tushiriladi. Eritma eritgan monokristal o‘z o‘qi atrofida asta – sekin aylantirilib ko‘tariladi. Monokristal ko‘tarilishi bilan eritma kristallanadi va kremniy monokristali hosil bo‘ladi. Hosil bo‘lgan kremniy quymasi n– yoki r–turli elektr o‘tkazuvchanlikka ega bo‘ladi. Quyma uzunligi 150 sm, diametri esa 150 mm va undan katta bo‘lishi mumkin.
Zonali eritish usulida monokristal ifloslantiruvchi kiritmalardan qo‘shimcha tozalanadi. Bunda kristallning tor zonasi eritilib, eritilgan zona kristallning bir uchidan ikkinchi uchiga asta siljitib boriladi. Kiritmalarning erigan fazada eruvchanligi qattiq holatdagi eruvchanligiga qaraganda katta bo‘lsa, o‘sha kiritmalar suyuq fazaga o‘tib kristallning ikkinchi uchiga siljib boradi, va o‘sha erda to‘planadi. Kiritmalar to‘plangan soha tozalash jarayonlari tugagandan so‘ng kesib tashlanadi.
Epitaksiya. Epitaksiya jarayoni asos sirtida uning kristall tuzilishini takrorlovchi yupqa monokristal ishchi qatlamlar hosil qilish uchun ishlatiladi. Asos bunda mustahkamlikni ta’minlash va kristallanayotgan qatlam takrorlashi zarur bo‘lgan kristall panjara sifatida xizmat qiladi. Keyingi texnologik jarayonlarda epitaksial qatlamda IMSning aktiv va passiv elementlari hosil qilinadi.
Gaz fazali va suyuq fazali epitaksiya usullari keng tarqalgan bo‘lib, ular monokristal asos sirtida n– yoki r–turli o‘tkazuvchanlikka ega bo‘lgan epitaksial qatlamlar hosil qilish imkonini beradi.

Download 136.5 Kb.

Do'stlaringiz bilan baham:
  1   2   3   4   5   6   7




Ma'lumotlar bazasi mualliflik huquqi bilan himoyalangan ©fayllar.org 2023
ma'muriyatiga murojaat qiling