Foydalanilgan adabiyotlar X. K. Aripov, A. M. Abdullaev, N. B. Alimova. Elektronika. O‘quv qo‘llanma– Toshkent: tatu, 2008, 137 b. Ugryumov Ye. P. «Tsifrovaya sxemotexnika»

Foydalanilgan adabiyotlar

1. 
   X.K. Aripov, A.M. Abdullaev, N.B. Alimova. Elektronika. O‘quv qo‘llanma– Toshkent: TATU, 2008, 137 b.
   
2. 
   Ugryumov Ye.P. «Tsifrovaya sxemotexnika». Sankt-Peterburg «BXV - Peterburg» 2007g.
   
3. 
   Bezugmov D.А., Kalenko I.V. «Tsifroviye ustroyistva i mikroprotsessoriy». Rostov na Donu 2006 g.
   
4. 
   Babich N.P., Jukov I.А., «Osnoviy tsifrovoy sxemotexniki» Moskva, DMK, Press-2007 g.
   
5. 
   Yu.F. Opadchiy, O.P. Gludkin, A.I. Gurov. Analogovaya i sifrovaya elektronika. – M.: Goryachaya liniya – Telekom, 2003.
   
6. 
   Stepanenko I.P. Osnovi mikroelektroniki: Uchebnoe posobie dlya vuzov. – 2-e izd., pererab. i dop.- M.: Laboratoriya Bazovix Znaniy, 2001.
   
7. 
   Yu.L. Bobrovskiy, S.A. Kornilov, I.A. Kratirov i dr.; Pod red. prof. N.F. Fedorova. Elektronnie, kvantovie pribori i mikroelektronika: Uchebnoe posobie dlya vuzov.- M.: Radio i svyaz, 2002.
   
8. 
   Dikman L.A., Bogatirev V.A., SHegolev S.Yu., Xlebstov N.G. Zolotie nanochastisti: Sintez, svoystva i biomedistinskie primeneniya. M.: Nauka, 2008. – 318 s.
   
9. 
   Evdokimov Yu.M., Sichov V.V.//Uspexi ximii 2008, 2, 194-206.
   
10. 
    Krutyakov Yu.A., Kudrinskiy A.V., Olenin A.Yu., Lisichkin G.V. // Uspexi ximii 2008, 77(3), 242-265.
    
11. 
    Gubin S.P., Yurkov G.Yu., Kataeva N.A. Nanochastisti blagorodnix metallov i materiali na ix osnove. M.: OOO «Azbuka-2000», 2006, 156 s.
    
12. 
    Xlebstov N.G., Bogatirev V.A., Dikman L.A., SHegolev S.Yu. // Rossiyskie nanotexnologii 2007 2, № 3-4, 69-86.
    
13. 
    Murphy C. J., Sau T. K., Gole A. M., Orendorff C. J., Gao J., Gou L., Hunyadi S. E., Li T. // J. Phys. Chem. B 2005, 109, 13857-13870.
    
14. 
    Quan-Yu Cai, Sun Hee Kim, Kyu Sil Choi, Soo Yeon Kim, Seung Jae Byun, Kyoung Woo Kim, Seong Hoon Park, Seon Kwan Juhng, Kwon-Ha Yoon // Invest. Radiol.2007, 42, 797–806.
    
15. 
    Grieshaber D., MacKenzie R., Voros J., Reimhult E. // Sensors 2008, 8, 1400-1458.
    
16. 
    Daniel Huang, Frank Liao, Steven Molesa, David Redinger, Vivek Subramanianb // Journal of The Electrochemical Society, 150 (7) G412-G417 (2003).
    
17. 
    Pong B.K., Elim H. I., Jian-Xiong Chong, Wei Ji, Bernhardt L. Trout, Jim-Yang Lee // J. Phys. Chem. C, 2007, 111 (17), 6281 -628.
    
18. 
    Whetten R. L., Khoury J. T, Alvarez M. M., Srihari Mu&y, Vezmar I., Wang Z. L., Stephens P. W., Cleveland C. L., Luedtke W. D., LandmanU. // Adv. Mater. 1996, 8, 5, 428-433.
    
19. 
    McFarland A.D., Haynes C.L., Mirkin C. A., Van Duyne R.P., Godwin H. A. //J. Chem. Ed. 2004, 544A, 81, 4, www.JCE.DivCHED.org.
    
20. 
    Liz-Marzan L. M. // materialstoday 2004, February, 26-31.
    
21. 
    Rayford II C. E., Schatz G., Shuford K. //Nanoscape 27, Spring 2005,Volume 2, Issue 1.