Мавзу: Кристалланиш жараёни. Кристалланишнинг статикаси ва кинетикаси. Режа

Кристалланиш усуллари 
Кристалланиш жараёнини даврий ва узлуксиз ташкил этиш мумкин. Даврий кристалланиш 
жараёни кам тоннажли, узлуксиз эса – кўп тоннажли ишлаб чиқаришда қўлланилади.
Саноат миқёсида қуйидаги кристалланиш усулларидан фойдаланади: эритмалардаги 
эритувчининг бир қисмини буғлатиш; эритма температурасини ўзгартириб кристаллаш; 
комбинацияланган усуллардан фойдаланиб кристаллаш.
Эритмадаги эритувчининг бир қисмини буғлатиб кристаллаш. Эритувчининг бир 
қисмини йўқотиш учун буғланиш ёки музлатиш усулидан фойдаланиш мумкин. Эритма 
таркибидаги сувни ҳайдаш учун буғланиш кенг кўламда ишлатилади. Одатда бу жараён буғлатиш 
қурилмаларида амалга оширилади. Керакли даражадаги ўта тўйинган эритма ҳосил бўлгандан 
кейин, у шу қурилмада кристалланади. Ушбу усул изотермик кристалланиш деб аталади. 
Бу усулнинг камчиликлари: ҳосил бўлаётган кристаллар иссиқлик алмашиниш юзаларига 
ёпишиб қолади; бошланғич эритма таркибидаги аралашмалар ҳам қуюқлашади.
Қурилма ичида қаттиқ моддалар ёпишиб ёки чўкиб қолмаслиги учун эритманинг 
циркуляция тезлиги кўпайтирилади.
Кристалларни ажратиш ва ювиш фильтр ёки центрифугаларда ўтказилади. 
Эритма температурасини ўзгартириб кристаллаш. Бундай усул изогидрик кристаллаш 
деб номланади, чунки бу жараён эритмада эритувчи миқдори ўзгармас бўлган ҳолатда олиб 
борилади.
Кимё саноатида мусбат эрувчанликли тузларни кристаллаш жуда кенг тарқалган. Бундай 
эритмаларнинг ўта тўйинишига уни совитиш йўли билан эришилади. Жараён даврий ёки узлуксиз, 
поғонали жойлашган бир ёки кўп корпусли қурилмаларда олиб борилади. Совутувчи элткич 
сифатида сув ишлатилади. Ҳаво ёрдамида совутилганда жараён нисбатан секин боради, лекин 
йирик ва бир жинсли кристаллар ҳосил бўлади. Манфий эрувчанликли эритмаларни кристаллаш 
учун эритма қиздирилиши зарур. 
Комбинацияланган усулларга вакуум остида, эритувчининг бир қисмини иссиқлик элткич 
ёрдамида буғлатиб кристаллаш ва фракцияли кристаллашлар киради.