Mustaqil ishi 2 Topshirdi: Qudratov M

IMS ni yaratish texnologyasining asosiy bosqichlari.Yarim o’tkazgichli IMS ni ishlab chiqarish loyiha natijalari asosida aniqlangan parametrlarga ega bo’lgan elementlarni yaratishdan iborat bo’lgan quyidagi fizik – kimyoviy jarayonlarni o’z ichiga oladi: 1. Yarim o’tkazgich namunani IMS yasash uchun tayyorlash jarayonlari;
2. Fotolitografiya jarayoni; 3. Diffuziya; 4. Epitaksiya; 5. Termik oksidlash; 6. Ion legirlash; 7. Metallash va boshqa yakunlovchi bosqichlar; Quyida keltirilgan tizimda IMS ni ishlab chiqarish jarayonlari uni loyihalashdan to ishlatishga yaroqli tayyor mahsulot olishga qadar bo’lgan ketma-ketlikda aks ettirilgan.
IMS yasash uchun tayyorlash :
Bu bosqich quyidagi jarayonlarni o’z ichiga oladi: a) kremniy monokristallini o’stirish; b) uni olmos keskich vositasida disklarga kesish; v) korund, volfram karbidi yoki olmos kukuni ko’rinishidagi obraziv yoki ultratovush yordamida namunaga mexanik ishlov berish;
g) sirka kislotasi yoki azot kislotasida yuvib, sayqallash; d) namunaning sayqallangan sirtiga n yoki p – turdagi epitaksial qatlam o’stirish va SiO2 muhofaza qatlamini hosil qilish.
Fotolitografiya jarayoni:
Yarim o’tkazgich plastina sirtiga loyihalangan IMS ni hosil qilish uchun loyiha natijasida olingan fotoshablon–fotonusxa shaklini tushirish uchun fotolitografiya o’tqaziladi.
Quyida fotolitografiya jarayonining bosqichlari n-p-n tranzistor hamda diffuziyaviy rezistordan iborat sxemani yaratish misolida keltirilgan