Казанский

ЛИТЕРАТУРА

1. Кузьмичев А. Магнетронные распылительные системы. Книга 1. Введение

в физику и технику магнетронного распыления. М.:Аверс, 2008. – 244 с.

2. Физика твердого тела: Лабораторный практикум/ Под ред. Проф.

А.Ф.Хохлова. Том 1. – Н.Новгород: Изд-во ННГУ, 2000.- 360 с.

3. Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения

тонких пленок.- М.: Энергоатомиздат, 1989.- 328с.

4. Технология тонких пленок. Справочник. Т1/ Под ред.Л.Майсела, Р.Гленга.

М.: Сов.радио, 1977.- 664 с.

5. Данилин Б.С., Сырчин В.Н. Магнетронные распылительные системы. М.:

Радио и связь, 1982.- 72 с.

6. Курносов А.И.. Юдин В.К. Технология производства полупроводниковых

приборовиинтегральныхмикросхем. М.: Высшаяшкола, 1986. 366 с.

7. P.J. Kelly, R.D. Arnell, Magnetron sputtering: a review of recent developments

and applications. Vacuum 56 (2000) 159-172.

8. J. Musila, P. Barocha, J. Vlčeka, K.H. Namc and J.G. Hanc, Reactive magnetron

sputtering of thin films: present status and trends, Thin Solid Films, V. 475, Is-

sues 1-2, 2005, P. 208-218

9. K. Sarakinosa, J. Alamib, and S. Konstantinidisc, High power pulsed magnetron

sputtering: A review on scientific and engineering state of the art, Surface and

Coatings Technology, V. 204, Issue 11, 2010, P. 1661-1684.

10. P. Kelly, C. F.Beevers, P. Henderson, R. D. Arnell, H. Backer, J. W. Bradley,

A comparison of titanium-based films produced by pulsed and continuous DC

magnetron sputtering, Surface and coatings technology, 2003, vol. 174/175, pp.

795-800.

11. I. Safi. Recent aspects concerning DC reactive magnetron sputtering of thin

films: a review. Surface and Coatings Technology, V. 127, Issues 2-3, 2000, P.

203-218.

33