Микроструктура и комбинационные рассеяние света тонких пленок sb


Download 343.2 Kb.
bet1/3
Sana22.04.2023
Hajmi343.2 Kb.
#1382296
  1   2   3
Bog'liq
тезис НамГУ нивер 2023 (2)


МИКРОСТРУКТУРА И КОМБИНАЦИОННЫЕ РАССЕЯНИЕ СВЕТА ТОНКИХ ПЛЕНОК Sb2Se3 РАЗЛИЧНОГО СОСТАВА ПОЛУЧЕННЫХ ИЗ ОТДЕЛНЫХ ИСТОЧНИКОВ ИСТОЧНИКОВ Sb И Se ПРИ ТЕМПЕРАТУРЕ ПОДЛОЖКИ 400℃
T.М. Разыков1 д.ф.м.н. проф., К.М. Кучкаров1 д.ф.м.н. проф., Б.А. Эргашев1 PhD. снс, Р. Т. Йулдошов1, Д. Исаков1, М. Махмудов1, М. Пиримматов1
1Физико-технический институт НПО «Физика-Солнце» АН РУз,
Узбекистан, 100084, Ташкент, ул. Чингиза Айтматова, 2Б
тел.: +99(871)235-41-03; e-mail: k.kuchkarov@mail.ru
Введение. Настоящее время исследователи мира уделяют особое внимание применению халькогенидных бинарных соединений Sb2Se3, Sb2S3 и твердых растворов Sb2(Sx,Se1-x)3 на их основе (химическая формула Sb2X3) в качестве поглощающего слоя для солнечных элементов [1].
В данной работе были изучены структурные и электрические свойства пленок Sb2Se3, полученных ХМПО из отдельных источников бинарного соединения Sb2Se3 и элементов Se при температуре подложки 500℃.
Методика эксперимента. Sb2Se3 методом ХМПО подробно описано в работе [2]. В качестве исходного материала, были использованы вещества бинарного соединение Sb2Se3 и Se полупроводниковой чистоты (99,999%), которые испарялись в потоке водорода при атмосферном давлении. Температурный интервал испарения гранул бинарного соединения и селена для выращивания пленок находился в пределах 800℃ для Sb2Se3, а непосредственно для Se 350℃-430℃, а температура подложки поддерживалась при 5000C.
Результаты и их обсуждение. Морфологию поверхности исследовали с помощью сканирующего электронного микроскопа. На рис. 1 представлена морфология поверхности тонких пленок Sb2Se3 различного состава, осажденные из отдельных источников сурьмы (Sb) и селена (Se) при температуре подложки 400 °С. Контроль содержания селена в процессе осаждения осуществляли путем изменения температуры источника селена от 380оC до 470оC.
Все тонкие пленки SbxSey имели компактную морфологию поверхности. Размеры кристаллов пленок SbxSey, состоящих из стержней, находились в пределах 0,5÷8 микрон. Средние диаметры и длины стержней SbxSey, осажденных при отношениях Sb/Se - 0,66 и 0,7, были примерно одинаковыми при 0,5÷1 и 1÷4 мкм соответственно. При соотношении Sb/Se≈0,52 длина стержней составляла от 1 до 10 мкм, и большинство из них были параллельны подложке. При соотношениях Sb/Se≈0,76 и Sb/Se≈0,98 упорядоченное расположение стержней на основании нарушено, т. е. доли стержней, растущих параллельно и перпендикулярно основанию, почти равны. В тонких пленок SbxSey, полученных при соотношении 1,26, размер зерен уменьшился. По мере приближения отношения Sb/Se к стехиометрическому длинные стержни превращаются в более короткие и гладкие зерна.


Sb/Se=0.52

S b/Se=0.67

S b/Se=0.7

Sb/Se=0.76


Sb/Se=0.98

Sb/Se=1.17

Рисунок 1 – Морфология поверхности тонких пленок Sb2Se3 синтезированных при температуре подложки 400 ºC с различными соотношением Sb/Se, полученная на сканирующем электронном микроскопе
Измерения рентгеноструктурного анализа проводились на пленках различных составов, осажденных при температуре подложки 400 oC, для установления фазового состава и определения преимущественный ориентации слоев SbxSey.
Как показано на рис. 2, все дифракционные пики принадлежат орторомбической фазе Sb2Se3 (JCPDS 15–0861). Также с увеличением содержания Sb на пленках наблюдалось снижение интенсивности пика Sb2Se3. В частности, интенсивность пика преимущественной ориентации (061) упала до минимума. Полученные рентгенограммы хорошо согласуются со стандартной картиной, что свидетельствует о хорошей кристалличности пленок, при этом никаких других фаз обнаружено не было.
Практически не наблюдается заметного изменения текстуры для различных соотношений Sb/Se, что согласуется с очевидной стабильностью процесса синтеза до этого момента. Известно, что пленки Sb2Se3 состоят из одномерных лент (Sb4Se6)n, уложенных вдоль направления [001] за счет ковалентных связей Sb-Se, а ленты (Sb4Se6)n удерживаются вместе ван-дер-ваальсовыми силами между лентам.
Для анализа изменения текстуры были отобраны линии, имеющие наибольшую интенсивность: (020), (120), (130), (230), (211), (221), (301), (240), (141), (061). Зерна (hk1)-ориентации, состоящие из лент (Sb4Se6)n, имеют определенный угол наклона с подложкой, обладающей наилучшей способностью переноса носителей заряда [3]. Можно представить, что перенос носителей в направлении предпочтительной ориентации [221] будет легче, чем в направлении ориентации [120]. Кроме того, зерна с преимущественной ориентацией состоят из плоскостей (hk1). Это указывало на то, что пленки с зернами предпочтительной ориентации [hk1] будут иметь меньший разрыв ковалентных связей. Другими словами, границы зерен предпочтительной ориентации [hk1] могут иметь меньшую поверхностную энергию и меньше оборванных связей и очень полезны для уменьшения рекомбинации на границе раздела и транспортных потерь поглотителя [4].
Кроме того, теоретические расчеты показали, что поверхности, такие как поверхность (hk0), соответствующая плоскостям (110) и (120),


Download 343.2 Kb.

Do'stlaringiz bilan baham:
  1   2   3




Ma'lumotlar bazasi mualliflik huquqi bilan himoyalangan ©fayllar.org 2024
ma'muriyatiga murojaat qiling