Реферат диссертации доктора философии (PhD) по физико-математике ташкент 2023 удк

ЗАКЛЮЧЕНИЕ
1. Впервые путем имплантации ионов Fe и Co с энергией 40 кэВ и дозами 10 ¹⁵ – 10 ¹⁷ см ^-2 в области вблизи поверхности кремния, формируя тонкие слои атомов железа и кобальта шириной 100Ǻ и после имплантации 800 Создана технология формирования силицидных слоев путем термической обработки при температурах выше ^{0 С;}
атомов во всех исследованных образцах имеют гауссову форму. Максимальная глубина распределения зависит от количества излучения и энергии ионов. Увеличение концентрации вызывает снижение Rp до 395Ǻ. Показано влияние теплового нагрева конструкций на профили распределения сплава на входе. В отличие от элементов III и V групп после термической обработки поверхностная концентрация элементов переходных групп не увеличивается, а уменьшается. Значительная диффузия начинается при температурах выше 600 ^{0 С.} При этом смещение максимума вглубь образца происходит по законам диффузии.
3. Определены оптимальные условия получения тонкого слоя входных атомов Fe и Co методом ионной имплантации в областях, близких к поверхности кремния. Установлено, что при нагреве образцов, легированных дозой 10 ¹⁵ ионов/см ² , активация наблюдается при температуре 650 ⁰ С. При термообработке при Т=750 ^{0 С концентрация электроактивных атомов кобальта в Si} увеличивается до (2÷5)·10 ¹⁵ см ^{-3 , что оказывается в 4÷5 раз выше по сравнению с диффузионным легированием.}
При температурах выше 1000 ⁰ С электрически активный ввод приводит к резкому уменьшению концентрации атомов .
отжига с ионной бомбардировкой при температуре нагрева выше 800 ⁰ С было установлено, что неровная поверхность характеризуется образованием зубчатых участков, характерных для монокристаллов.
6. Установлено, что структурные изменения зависят от количества излучения и температуры нагрева . Например, для железа при дозе облучения 10 ¹⁷ ион/см ^{2 после нагрева при температуре 800 0} С на поверхности образовался монокристаллический слой с множеством дефектов, а при повышении температуры до 1100 ⁰ C поверхность была аморфной, определяли образование слоев.