7- mavzu: Pol tuzilmalari va ashyolari. Pol konstruksiyalari. Iliqpollar. Pol konstruksiyalari

86-rasm. Mozaikali pollar


7.4. O‘z-o‘zidan tekislanadigan beton pollar
O‘z-o‘zidan tekislanadigan beton pollar - bu nisbatan yangi turdagi pollar bo‘lib, unda silliq qoplamali qatlam yuqori harakatchan beton qorishmasining
oddiy mexanik yoyilishi natijasida hosil bo‘ladi.
Betonning talab qilinadigan reologik va ekspluatatsion xususiyatlariga kompleks polimer qo‘shilmalar qo‘shish orqali erishiladi. Bunday murakkab ko‘pkomponentli kompozisiyalar zavod Sharoitida quruq aralashmalar Shaklida ishlab chiqariladi.





87-rasm. O‘z-o‘zidan tekislanadigan beton pollar.
Ulardagi foydalaniladigan bog‘lovchilar tez qotuvchi, cho‘kmaydigan sementlar bo‘lib, qisqa vaqt ichida katta maydonda choksiz beton qoplamalarini olish imkonini beradi. Qalinligi - 5-25 mm bo‘lgan qoplama 1-3 kun ichida 30-50 MPa mustahkamlikka erishadi. Ushbu pollarning dekorativ sifatlari past bo‘lganligi sababli, ulardan og‘ir sharoitda ishlaydigan sanoat binolari va ombor uchun foydalanish tavsiya etiladi (87-rasm).
O‘zini tekislaydigan polimer pollar - istiqbolli pol qoplamalari bo‘lib, gigienik, ekspluatatsion va estetik xususiyatlariga katta talablar quyiladigan xonalarda choksiz pol qoplamalarini barpo etishda qo‘llaniladi.
O‘z-o‘zidan tekislanadigan bu pollar suyuq yopishqoq oligomerlar: epoksid, poliefir, poliuretan, suyuq kauchuklar va boshqa elastomerlar asosida olinadi
(88-rasm).
Qoplamaning dekorativ effektini ta’minlash va fizik-mexanik xususiyatlarini





88-rasm. O‘zini tekislaydigan polimer pollar

yaxshilash maqsadida ular tarkibiga kukunsimon va kosachasimon to‘ldirgichlar va pigmentlar qo‘shiladi. O‘z-O‘zidan tekislanadigan pollar qattiq (qalinligi 0,5-4 mm) va elastik (rezinaga o‘xshash, qalinligi 3-5 mm) bo‘lishi mumkin. Bunday pollar mustahkam va zich bo‘ladi. Polning tekisligi va tozaligiga yuqori talablar qo‘yiladi. O‘zini tekislaydigan polimer pollarni tozalash va dezinfektsiyalash oson, ular ko‘pchilik kimyoviy moddalarga chidamli.