Глава I исследование электрофизических свойств и Анализ методов получения пленок (ZnSe) Х (SnSe ) 1-х §

Вакуумное испарение также известно как вакуумное осаждение, и это процесс, в котором материал, используемый для покрытия, термически испаряется, а затем переходит от разности потенциалов к подложке с небольшим или нулевым столкновением с молекулами газа. Нормальные уровни вакуума находятся в диапазоне от среднего до высокого вакуума от 10^-5 до 10^-9 мбар. В методах термального испарения, различные методы можно приложить для того чтобы нагреть материал. Оборудования имеющиеся в лаборатории используют или топление сопротивления или бомбардировку с электронным лучом высокой энергии, обычно нескольк KeV, от пушки электронного луча (топления электронного луча).
В методе наыления сопротивления, материал не нагрет до сплавливания посредством электрического тока пропуская через нить или металлическую пластину (испаритель) где материал цели депозирован. Испаренный материал после этого сконденсирован на подложке. Другие пути наыления использованы, как катушка RF окружая тигель графита или BN, где сплавлен материал, котор нужно испарить. Агрегат метода просто и результаты соотвествующие для депозируя металлов и некоторых смесей с низкой плавя температурой.

Рисунок 2.2: Схематическая изображения метода Вакуумное испарение [3].

Метод нагревательный электронного луча основан в жаре произведенной бомбардировкой электронного луча высокой энергии на материале, котор нужно депозировать. Электронный пучок генерируется электронной пушкой, в которой используется термоэлектронная эмиссия электронов, производимых накаливания. Испускаемые электроны ускоряются высоким напряжением (киловольты). Магнитное поле часто приложено для того чтобы согнуть траекторию электрона, позволяющ электронной пушке быть расположенным под линией испарения. По мере того как электроны можно сфокусировать, возможно получить локализованное топление на материале для того чтобы испариться, с высокой плотностью силы испарения. Это позволяет контролировать скорость испарения, от низких до очень высоких значений, и, самое главное, возможность нанесения материалов с высокой температурой плавления.