Kuydirish jarayoni

Metallarning oksidlanish mexanizmi Metallar past va yuqori haroratlarda oksidlanishlari mumkin, faqat ularning mexanizmi har xil bo‘ladi. Past harorat va yuqori haroratli oksidlanish jarayonida birinchi bosqish bo‘lib yupqa parda paydo bo‘ladi va jarayonning umumiy kinetikasi yupqa pardalar paydo bo‘lish bosqichidagi qonuniyliklarga bo‘ysunadi. Metallar oksidlanishi kinetikasining tajriba ma’lumotlariga ko‘ra logarifmik, teskari logarifmlik yoki kubli qonunlarga bo‘ysunadi. Emperik bog‘liqlarning nazariy tushuntirishlari Kabrer va Mott ishlarida keltirilgan. SHu nazariyaga muvofiq yupqa oksid pardasi paydo bo‘lishining birinchi bosqichi bo‘lib metall sirtida katta tezlik bilan o‘tadigan kislorodning xemosorbsiyasi bo‘ladi. Past haroratlarda yupqa oksid pardasi orqali miqdorning gradienti natijasida ionlar diffuziyasi (fizika qonunlariga binoan) murakkablasgan. SHu vaqtda oksidning yupqa qatlami elektronlar o‘tishi uchun engillasadi. Bu jarayon termoelektron emissiyasining ta’siri yoki tunelli effekt natijasida oqib o‘tadi. Metalning erkin elektronlari xemosorbirlangan kislorodga o‘tadi va boshqacha aytganda uni ionlaydi. Metall sirtidan elektronlarning o‘tishi metalldan oksid chegarasida metall kationlarning paydo bo‘lishiga olib keladi. Demak, kislorod anionlari oksid-gaz bo‘lim sirtida to‘planadi, metall kationlari esa metall-oksid chegarasida paydo bo‘ladi. Oksidlangan parda hajmida ikkilamchi elektr qatlami paydo bo‘ladi va uning enligi 5x10-9 ni tashkil qiladi. Bu qatlamning hajmida 1V kuchli potensial paydo bo‘ladi va maydonning kuchlanishi 107 V/sm ni tashkil qiladi. SHunday maydon kationlarning yo‘naltirilgan siljishiga sharoit yaratadi. Demak, past haroratlardagi oksidlanishning mexanizmi asosan elektr kushlanish orqali oqib o‘tadi va miqdor gradientining ahamiyati deyarli kam bo‘ladi
Metallarni oksidlanish davrida turli qatlamlar paydo bo‘lish qonuniyatlari. YUqori xaroratli oksidlanish. Qalinligi  kr (10-8 -10-7m) dan katta bo‘lgan qalin pardalar paydo bo‘lishi metallar oksidlanishning qonuniyliklariga ta’sir qiladi. Metall oksidlanishida enli qatlam paydo bo‘lish nazariyasini Vagner ishlab shiqgan. Jarayonning umumiy tezligi bu holda diffuziya jarayonlari tezligi bilan aniqlanadi. Metallar oksidlanishi bir qator bosqishlarda, minimum quyidagicha kechadi: 1) Fazalar bo‘lim chegarasidagi kimyoviy reaksiyalar (nometall molekulalarni ajralishi, oksid – gaz bo‘lim chegarasida paydo bo‘lgan atomlar xemosorbsiyasi, xemosorbirlangan ionlarni oksid otashdoniga kiritilishi, metallning metall fazasidan oksid kristallik otashdoniga o‘tishi, uni ionlash va boshqalar). 2) Kristallik kurtaklarining paydo bo‘lish jarayonlari: 3) Kationlar, anionlar diffuziyasi yoki metall oksidi qatlamidan boshqacha yo‘nalishda o‘tadigan birgalik diffuziyasi: Oksidning yarim o‘tkazgichligini hisobga olgan holda, oraliq chegaralarida quyidagi jarayonlar amalga oshishi mumkin (6.1-rasm). Metall-oksid (AV) shegarasida quyidagi reaksiyalar bo‘lib o‘tadi: Me  Me2+ + 2e Me + VMe2+ + 2e +  nol Me  Vo2- + 2e + MeO Oksid-kislorod (CD) shegarasida quyidagi reaksiyalar kechadi: 1/2 O2 = VMe2+ + 2e + 1/2 O2 + Me 2 i + 2e)  MeO 1/2 O2 + Vo  2 + 2e)  nol