Oxygen in Silicon Single Crystals
Download 1.39 Mb.
|
Oxygen in Silicon Single Crystals ццц
Парамагнитные свойства термодоноров-II
Определение структурной и электронной симметрии как ТД-I, так и ТД-II, играет существенную роль в подтверждении предлагаемых моделей термодоноров. Применение метода ЭПР, позволяющего использовать характерные расщепления спектров ЭПР, вызванных сверхтонким взаимодействием неспаренных спинов электронов, связанных с термодефектами, со спинами ядер этих дефектов, а также расшифровка спектров ЭПР при введении изотопов, позволяет не только изучать электронную структуру локальных дефектов, но и определять их химическую природу и строение [269]. Идентификация парамагнитных центров NL8, NL9 и NL10, связанных с ТД-I, с использованием ЭПР - наглядное тому подтверждение. Первые исследования парамагнитных свойств ТД-II и сопоставления с парамагнитными свойствами ТД-I выполнены в работах [103, 104]. В обеих работах использованы для исследований кислородсодержащие кристаллы n-Si, легированные фосфором, с исходной концентрацией его в образцах =1014 см-3 . На рис. 78 показаны спектры ЭПР, записанные на образцах n-Si^), прошедших отжиги различной длительности при 650°С. Как видно из поведения пиков g = 1.986 и 2.011, которые проявляются вследствие сверхтонкого расщепления фосфора, концентрация фосфора не изменяется под воздействием термообработок, приводящих к образованию термодоноров. Следовательно, можно заключить, что фосфор не принимает участия в образовании ТД-II. На начальных этапах отжига (1-6 ч) спектр ЭПР ТД-II представляет собой узкую почти изотропную, близкую к симметричной, линию, расположенную между пиками фосфора. С увеличением продолжительности отжига образцов спектр ЭПР от ТД-II усложняется и становится резко асимметричным (асимметрия характеризуется величиной R = = Jmax/Jmin . Вид спектров ЭПР для ТД-II наводил на предположение, что ТД-II, как и ТД-I, существует несколько видов, а спектр ЭПР от ТД-II представляет собой композицию нескольких линий от центров с невзаимодействующими спинами, но разделить их с помощью Х-зоны спектрометра по изменению формы линии невозможно. Позднее в работах [188, 256] показано, что в случае ТД-II, действительно, имеем набор центров. А линию спектра, определяемую ТД-II, можно описать как суперпозицию одиночных линий от центров ТД-II с невзаимодействующими спинами [188]. Определенный в работе [103] g-фактор главной линии поглощения для ТД-II характеризуется незначительной анизотропией (g-,= 1,9985; g2 = 1,9984; g3=1,9983) и его можно считать почти изотропным (главное значение его почти такое же, как и фосфора). В [103] пришли к заключению, что ТД-II имеют Тй симметрию, как и фосфор. Интенсивность J(T) ЭПР-поглощения определяется как: 1 74
(128) где N(T) - концентрация спинов, которые принимают участие в ЭПР- поглощении; Л - постоянная; Т - температура. В работе [103] показано, что температурная зависимость ЭПР-пог- лощения при наличии ТД-II в кристаллах Si подчиняется закону Кюри, что указывает на существование независимых спинов центров ТД-II. Наблюдаемая взаимосвязь между концентрацией электронов, определенной из эффекта Холла (ne) при комнатной температуре (когда все ТД-II ионизированы), и концентрацией спинов, определенной из ЭПР при низких Т(Мэпр) [103, 104] приводит к выводу, что ТД-II в основном являются парамагнитными центрами, не зависимыми друг от друга. При этом ne « Мэпр . В [117, 188] при изучении спектра уровней ТД-II методами ЭПР, эффекта Холла с использованием у-облучения 60Со показано, что в общем случае (в отсутствие компенсации образцов) ТД-II представляют набор центров с д-факторами в диапазоне 1.9985-1.9992. При этом с увеличением продолжительности отжига образцов (при 650°С) образуются центры ТД-II, которым соответствуют меньшие значения д-фактора и большие значения энергии термической ионизации. При наличии широкого набора центров ТД-II спектр ЭПР становится все более асимметричным (рис. 78). Последовательно объяснить такие особенности спектров ЭПР для ТД-II как сдвиг д-фактора (по сравнению с д-фактором свободного электрона д0 = 2.0023), асимметрию, анизотропию ширины линии ЭПР, спинрелаксационные характеристики ТД-II, а также зависимость изученных параметров от длительности отжига и наличия акцепторов в образцах, удалось в [188], где предложена модель ТД-II, учитывающая локализацию электронов на флуктуациях кристаллического потенциала, обусловленных кислородными преципитатами, образующимися в результате отжигов, приводящих к образованию ТД-II. Рис. 78. ЭПР-спектры для образцов n-Si^), прошедших отжиги при 650°С [104] (цифры у кривых - длительность отжига образцов, ч в темноте (46, а) и при освещении меж- зонным светом (46, б) 175 Несколько отличающийся от [103, 104] результат по ЭПР получен в [270], где соотношение между концентрациями ТД-II и парамагнитных центров в термообработанных образцах получено в виде ne(300 K) << Nэпр . (129) Из [270] следует, что различия между ne и Мзпр составляют два порядка. Авторы [270] полагают, что в роли ЭПР центров в этом случае выступают нейтральные донороподобные состояния, распределенные на поверхности кислородных преципитатов (типа квазисвязанных состояний на границе раздела Si-SiO2 (Рв- центров [271]). В ЭПР-исследованиях [182, 183] обнаружен парамагнитный центр NL10, образующийся в n- и p-Si как при отжигах, приводящих к образованию ТД-I, так и при отжигах, приводящих к образованию ТД-II (отжиги при 650 и 750°C. Увеличение длительности отжига при 650°С приводит лишь к некоторому изменению величины g-фактора этого центра [182]. Исходя из этих данных в [182] пришли к заключению, что ТД-I и ТД-II, наблюдавшиеся в спектрах ЭПР в виде центров NL10, имеют одинаковую структуру и природу. Такое заключение сделано и в [187] при сравнении параметров парамагнитных центров ТД-!,образующихся при длительных отжигах (до 500 ч) при 450°С, с параметрами центров ТД-II, образующихся на начальных этапах отжигов при 650°С. Одинаковая природа некоторой части ТД-II и ТД-I может быть объяснена на основании данных, полученных в [147], где обнаружена взаимосвязь между стержнеподобными дефектами и донорами, образующимися во время длительных (до 1500 ч) термообработок образцов в интервале температур 400-500°С. Такие стержнеподобные дефекты, как показано в [272], образуются в диапазоне 400-750°С, включающем оба температурных интервала, в которых образуются ТД-I и ТД-II. Наблюдаемое усложнение спектров ЭПР для ТД-II с увеличением продолжительности отжигов образцов (см. рис. 78) вызвано, как показали эксперименты в [114, 273], не только образованием более широкого набора ТД-II, которое приводит к уширению спектра ЭПР и появлению значительной его асимметрии R, но и образованием новых парамагнитных центров с характерными отличительными особенностями. В [118, 274] определена природа этих новых парамагнитных центров. В [273] сообщалось о новых свойствах кислородсодержащих кристаллов n- и p-Si, возникающих после отжигов в течение 20-200 ч при 650°С. Обнаружено, что при гелиевых температурах исследуемые образцы обладают значительной СВЧ-проводимостью, которая проявляется в уменьшении в несколько раз добротности резонатора Q. Этот эффект коррелирует с появлением новых парамагнитных центров (далее Si - 2К, -3К, -4К [118, 273, 274]). В темноте центры Si -2К, -ЗК, -4К дают сложный спектр спинового резонанса (СР), состоящий более чем из 20 узких (АН ~ 0.03 мТ) линий при произвольной ориентации статического магнитного поля Н0. Угловая зависимость спектров приведена на рис. 79. 176
Download 1.39 Mb. Do'stlaringiz bilan baham: |
Ma'lumotlar bazasi mualliflik huquqi bilan himoyalangan ©fayllar.org 2024
ma'muriyatiga murojaat qiling
ma'muriyatiga murojaat qiling