Ю. Д. Гамбург химическое никелирование получение никель-фосфорных покрытий путем электрокаталитического

разделах.
Сходная ситуация имеет место и при восстановлении гипофосфитом ко-
бальта, а также при восстановлении никеля борсодержащими восстанови-
телями. В последнем случае вместо фосфидов образуются бориды никеля. 
Интересные данные о зависимости твердости Ni-P и Ni-B сплавов от термо-
обработки приведены в [25].
Таким образом, в отношении всего суммарного процесса можно сделать 
следующие выводы:
1. Электрокаталитическое (химическое) выделение никеля является про-
цессом, происходящим при смешанном потенциале, причем сопряженный 
анодный процесс – это окисление гипофосфита, а сопряженные катодные 
процессы – восстановление никеля и водорода. Одновременно имеет место 
диспропорционирование гипофосфита, сопровождающееся соосаждением 
элементарного фосфора.

---

Химическое никелирование
24
2. Параллельное выделение водорода всегда имеет место и в основном 
оно аналогично процессу, происходящему при гидролизе гипофосфита. Од-
нако соотношение атомов водорода, происходящих из воды и из гипофос-
фита, оказывается другим и зависит от каталитических свойств осаждаемо-
го сплава.
3. Процесс сопровождается подкислением раствора, образованием и на-
коплением в растворе малорастворимого фосфита.
В дополнение к этому можно отметить, что концентрационно-диффузи-
онная картина в данном случае сравнительно проста. Толщина нернстов-
ского диффузионного слоя, образованного вблизи поверхности, где обра-
зуется осадок, определяется в основном перемешиванием выделяющимся 
водородом и поэтому довольно мала. Для практически наблюдаемой ско-
рости выделения газа ее можно оценить по формуле (4.13) из монографии 
[28] примерно в 10
-3 
см. В этом слое имеет место перенос ионов никеля к 
поверхности и обратный перенос ионов водорода; эти два процесса пра-
ктически компенсируются в смысле баланса заряда. Кроме того, перенос 
гипофосфита к электроду компенсируется переносом фосфита от электрода 
вглубь раствора. Поэтому градиенты потенциала, которые могут быть об-
условлены концентрационными градиентами, практически отсутствуют, и 
вблизи рабочей поверхности электрического поля нет.
Понятно, что перенос вещества вблизи поверхности является чисто 
диффузионным, так как в отсутствие электрического поля миграции ио-
нов не наблюдается. Поскольку при обычной скорости выделения металла, 
соответствующей примерно i = 0,02 А/см
2
, градиент концентрации ионов 
никеля в этом слое составляет приблизительно i/(DnF) ≈ 10
-2
моль/см
4
, то 
для объемной концентрации 10
-4
моль/см
3
и указанной толщины диффузи-
онного слоя это соответствует приэлектродному изменению концентрации 
примерно в 10 %.