Ю. Д. Гамбург химическое никелирование получение никель-фосфорных покрытий путем электрокаталитического

Для тех же целей, а также для предотвращения выпадения малора-
створимого фосфита никеля добавляют такие комплексообразующие 
вещества, как молочная кислота и некоторые аминокислоты. Эти ве-
щества отчасти совпадают с теми, которые используют для увеличения ско-
рости осаждения и буферирования. Они позволяют работать при более вы-
соких рН, так как улучшают растворимость фосфита в этих условиях. 
Оп-
тимальная концентрация этих веществ, как и перечисленных выше, 
сравнима с концентрацией гипофосфита.
Указанные вещества полезны еще и тем, что даже при рН выше 7 гидрок-
сид никеля не выпадает в их присутствии в осадок, хотя рН гидратообразо-
вания никеля около 6,0. Кроме того, в результате комплексообразования они 
препятствуют выпадению осадка фосфита никеля (особенно аминокисло-
ты), хотя и несколько снижают при этом скорость осаждения. Аминокисло-
ты и дикарбоновые кислоты, как иногда полагают, еще и активируют реак-
цию окисления гипофосфита.
Важные для процесса характеристики нескольких из применяемых при 
химическом никелировании органических кислот [9], наряду с уксусной 
кислотой и ацетатами, перечислены ниже.
Пропионовая (пропановая) кислота C
2
H
5
COOH является слабым ком-
плексующим агентом в нейтральной среде, более сильным в слабокислой. 
Снижает концентрацию фосфора в покрытиях и приводит к повышению 
твердости при рН<6.
Малоновая кислота CH(COOH)
2
– сильный комплексант, особенно в ней-
тральной среде, несколько снижает внутренние напряжения в покрытиях.
Янтарная кислота C
2
H
4
(COOH)
2
и 
глутаровая кислота HOOC(CH
2
)
3
COOH – 
относительно слабые комплексанты, сильно ускоряют процесс осаждения, 
вызывают незначительные напряжения растяжения.
Адипиновая кислота HO
2
C(CH
2
)
4
CO
2
H – также довольно слабый ком-
плексант, однако сильно влияет на величину внутренних напряжений (при-
водит к напряжениям сжатия) и значительно снижает твердость покрытий 
(ниже 400 МПа).
Молочная кислота CH
3
CH(OH)CO
2
H является сильным комплексантом 
в кислой среде (при рН<6), способствует образованию блестящих и пла-
стичных покрытий.
Лимонная кислота HOOC-CH
2
-C(OH)COOH-CH
2
-COOH легко образует 
комплексы как в слабокислой, так и в нейтральной и слабощелочной среде, 
приводит к развитию высоких напряжений растяжения.

---