Химическое никелирование
18
Однако данный
подход вполне можно обобщить, одновременно рассмо-
трев все три процесса, тем более что выделение водорода также заведомо
имеет место в тафелевской (недиффузионной) области.
Очевидно, что, как
можно видеть из рис. 5, процесс выделения водорода приводит к некоторо-
му смещению смешанного потенциала в отрицательном направлении. Если
постулировать, что скорость выделения водорода равна (в терминах плотно-
сти тока) скорости выделения металла, что довольно
близко соответствует
действительности, то вместо (14) получается
lg
i (Ni) = 0,5lg [
i
0
(1)
i
0
(2)] + 6,85Δ
E
1-2
– 0,15,
(15)
а для нахождения скорости осаждения можно воспользоваться уравнением
(11). Уравнение (15) показывает, что, скажем, при Δ
E
1-2
= 0,5 В
плотность
тока выделения никеля превышает его плотность тока обмена (на данной
каталитически активной поверхности и при температуре 95 °С) более чем
на 3 десятичных порядка, т. е. в несколько тысяч раз.
При более высокой
или более низкой скорости выделения водорода несколько изменяется толь-
ко последнее слагаемое в уравнении (15).
Рис. 5. Тафелевские кривые для окисления гипофосфита
i
1
, для восстановления ионов нике-
ля
i
2
и
выделения водорода i(H
2
), имеющие вид ln(
i) = ln(
i
o
) +
k(
E –
E
o
)