Oxygen in Silicon Single Crystals


Download 1.39 Mb.
bet16/89
Sana10.04.2023
Hajmi1.39 Mb.
#1349265
1   ...   12   13   14   15   16   17   18   19   ...   89
Bog'liq
Oxygen in Silicon Single Crystals ццц


раздела являются пренебрежимо малыми; Ерав - теплота растворения.
В основном для определения величины [0/]рав (Т) используют два
экспериментальных метода. В первом методе используется кристалл
кремния, выращенный по методу Чохральского, который имеет пересы-
щенную концентрацию твердого раствора кислорода. Этот кристалл
подвергают длительному отжигу при той температуре, при которой не-
обходимо определять предел растворимости. В результате дли-
тельного отжига избыточный кислород будет преципитировать, и тогда
концентрация кислорода, оставшегося в растворе, будет соответство-
вать пределу растворимости кислорода в кремнии при температуре
отжига [0|]рав (Тотж) [60-63].
Во втором методе используется бескислородный кристалл крем-
ния, выращенный методом БЗП. Для исследования такой кристалл
подвергается отжигу в атмосфере кислорода или водяных паров с це-
лью создания на его поверхности оксидной пленки. Иногда после тако-
го процесса следует вторая термообработка (разгонка примеси), при
которой кислород диффундирует в объем кристалла. Тогда значение
концентрации кислорода на границе раздела Si-Si02 будет соответст-
вовать пределу растворимости при температуре термообработки [43,
64-66]. Экспериментальный график зависимости [0^рав от обратной
температуры позволяет определить па-
раметры [О]0 и Ерав. Однако, как было
отмечено в работе [66], несмотря на то,
что существует достаточно хорошее
согласие между экспериментальными
данными различных авторов при вы-
соких температурах (Т > 1000°С), рас-
четная теплота растворения (Ерав) раз-
личается более, чем в два раза, пос-
кольку в каждой работе проводилось
исследование [0^рав(Т) в относительно
узком интервале температур (рис. 14,
табл. 1).


Рис. 14. Зависимость растворимости кисло-
рода в кремнии от температуры по данным
работ: 1 -
[61 ]; 2 - [66]; 3 - [43]; 4 - [62]; 5 -

  1. ; 6 - [65]; 7 - [64]; 8 - [60]; 9 - [69]





39




[O]0,
(смт3)

О-о11
в,

Используемый метод

Работа

Год

1.2-1021

0.94

Отжиг Si (Чохр.) ИК- спектроскопии (X = 9 мкм, Тизм = 4.2 К)

[60]

1959

1.81023

2.3

Диффузия кислорода в Si (Б3П) + отжиг 450 °С для создания ТД-l + электрические измере­ния

[64]

1959

1.21023

1.57

Отжиг Si (Чохр.) ИК- спектроскопии (X = 9 мкм, Тизм = 77 К)

[61]

1971

8.2-1021

1.20

Диффузия кислорода в Si (Б3П) + метод рентгеновской ди­фракции

[43]

1973

1.91021

0.99

Отжиг Si (Чохр.) ИК- спектроскопия (X = 9 мкм, Тизм = 300 и 77 К)

[62]

1977

2.8-1021

1.07

Диффузия 18O в Si (Б3П) + ядерный активационный анализ 18O (p,n) 18F

[65]

1980

2.0-1021

1.03

Отжиг Si (Чохр.) + ИК- спектроскопия (X = 9 мкм, Тизм = 300 К)

[63]

1981

6.4-1020

1.02

Диффузия 18O Si (БЗ^+SIMS- метод

[66]

1982

7.1-1021

1.2

Отжиг Si (Чохр.) + ИК-
спектроскопия
(X = 9 мкм, Тизм = 4.2 К)

[69]

1984

2.6-1022

1.4

Анапиз данных всех работ

[69, 61, 66]

1984


Множество проблем при расчете величины [Oj]paB связано с точ­ностью определения остаточной равновесной концентрации кислорода по спектрам ИК-поглощения на 9 мкм по формуле (8). Вначале [67] предложили калибровочный коэффициент К
= 4.82 • 1017 см-2. В нас­тоящее время в большинстве стран применяется другой стандарт [38, 68], согласно которому. при определении концентрации кислорода по ИК-поглощению на 9 мкм при 300 К необходимо использовать калиб­ровочный коэффициент К = 2.45 • 1017 см-2. Поэтому при проведении сравнительного анализа данных, полученных различными группами ав­торов, необходимо пересчитать концентрацию согласно одному, ка­либровочному коэффициенту. К сожалению, такая процедура не всегда оказывается корректной, поскольку ИК-измерения проводились при различных температурах (Т = 300 К; 77 К или 4.2 К). Поэтому при со­


40




поставлении различных данных необходимо их уточнить с учетом тем­пературы измерения (т. е. для каждой температуры ИК-измерения нуж­но выбирать свой калибровочный коэффициент).
В работе [69] был проведен анализ и корректировка данных по рас­творимости кислорода в кремнии, полученных различными авторами, согласно вышеуказанным замечаниям (см. табл.1). В некоторых об­разцах не всегда учитывались эти замечания, и поэтому разброс дан­ных оказывался значительно больше, чем он есть на самом деле.
Кроме этого, необходимо отметить, что при нахождении предела растворимости при температурах ниже 1100°С по спектрам ИК- поглощения возникают некоторые трудности, связанные с появлением полосы поглощения от преципитатов вблизи 9 мкм. Поэтому если из­мерения не выполняют при низкой температуре (Т = 4.2 К) и поглоще­ние от преципитатов является достаточно большим относительно по­глощения растворенного кислорода, то довольно трудно разделить по­глощение, вызванное растворенным кислородом, от поглощения пре­ципитатов, что приведет к повышенному значению наблюдаемой рас­творимости. Во-вторых, в большинстве работ исследования ограничи­ваются временами термообработок до 200 ч, являющимися короткими, особенно для низкотемпературных отжигов [69]. Влияние этого факто­ра будет таковым, что это приведет к более высокому значению раст­воримости кислорода в кремнии, особенно если не анализируется об­щая кинетика распада твердого раствора кислорода.
Наконец, в работах [42, 66, 70] было обнаружено, что наблюдаемая растворимость кислорода в кремнии сильно зависит от ориентации кристалла и среды отжига в случае диффузии кислорода в объем крис­талла. Так, в работе [42] показано, что растворимость кислорода в приповерхностной области при диффузии кислорода в объем кристал­ла Si (Б3П) в направлении {111} приблизительно в два раза выше, чем в направлении {100}. Кроме этого, было установлено [66], что при диффузии кислорода из окисляющей среды концентрация диффунди- рованного кислорода [O,]s в приповерхностной области превышает предел растворимости при температуре отжига. Если далее такой кристалл подвергнуть отжигу при той же температуре в вакууме или среде инертного газа, то избыток кислорода диффундирует на поверх­ность кристалла и в приповерхностной области установится более низ­кое значение [O,]s, соответствующее равновесному значению предель­ной растворимости [O,]^. Следовательно, самая высокая раствори­мость кислорода в приповерхностной области кристалла кремния [O,]s достигается в случае диффузии кислорода в кристалл, выращенный методом Б3П, в направлении {111} из окисляющей среды (среды во­дяных паров), а самая низкая, которая считается равновесным значе­нием, получается при отжиге кислородсодержащего Si, выращенного по методу Чохральского, находящегося в равновесии с защитной плен­кой SiO2.
На рис. 15 приведены зависимости растворимости кислорода в кристалле кремния от температуры, полученные при отжиге в окис-


41




Рис. 15. Зависимости растворимости ки-
слорода в кристалле кремния от темпе-
ратуры, полученные при отжиге кристал-
ла в окисляющей среде (2) и среде
инертного газа (1) [66]
ляющей среде и в среде инертного газа (N2). Повышенная раствори­мость кислорода в кремниевых пластинах в окисляющей среде ока­зывает существенное влияние на технологию изготовления МОП струк­тур, поскольку окисление пластин Si приводит к большему значению концентрации кислорода в приповерхностной области, чем это ожи­дается из кривой равновесной растворимости. Кроме этого, в процес­се внутреннего генерирования, при создании обедненной зоны при высокой температуре необходимо учитывать влияние среды отжига.
Следует отметить особенность поведения растворимости кисло­рода в кремнии при низких температурах. Как видно из рис. 14, при Т < 850°С величина [0^рав мало изменяется с температурой и не опи­сывается формулой (16) [69]. По всей видимости, это связано с тем, что при низких температурах преципитаты имеют довольно малый раз­мер (10 нм) и поэтому энергия границы раздела Si-Si02 оказывает су­щественное влияние на предел растворимости кислорода в кристалле кремния.

  1. ОСОБЕННОСТИ РАСТВОРИМОСТИ КИСЛОРОДА В КРЕМНИИ ПРИ НИЗКИХ ТЕМПЕРАТУРАХ

Исследование растворимости кислорода при Т < 850°С показало, что в этой области температур наблюдается отклонение [0/]рав от экс­поненциальной зависимости (16) (рис. 14). В работе [71] были прове­дены исследования растворимости кислорода в кристалле кремния при Т < 650°С. С этой целью кислородсодержащие кристаллы Si, получен­ные методом Чохральского, подвергали длительному отжигу, после ко­торого ИК-методом определяли ту часть кислорода, которая выпадает во вторую фазу [0/]0- [OJ(f). Полученные экспериментальные данные сравнивали с теорией Хэма [72, 69] для диффузионно-лимитируемого





42




роста преципитатов, которая учитывает увеличение радиуса преципи­тата с увеличением времени термообработки гпр(£), предполагая, что во время отжига концентрация преципитатов (n) и коэффициент диффузии кислорода (Do) не изменяются. Эта теория привела к следующему ре­шению диффузионного уравнения [69, 71 ]:


[0,](t) - концентрация межузельного кислорода, которая остается в матрице после времени t, [0,]рав - концентрация кислорода в матрице, находящегося в равновесии с преципитатами (предел растворимости); [0,]0 - исходная концентрация кислорода при t = 0; [0]пр - концент­рация кислорода в преципитате, [0]пр = 4.65 • 1022 см-3: Оо - коэффи­циент диффузии кислорода в кремнии; n - средняя плотность преципи­татов; R - радиус сферической области, которая окружает преципитат, оп­ределяемый требованием 4/3nR3n = 1.
Функция f([0,](t) - [0,]рав) описана в работе [69]. Следовательно, по­лучив из ИК-измерений значения [0,]0 и [0,](t), тогда величины [0,]рав и К можно рассчитать подгонкой этих величин в уравнении (17) методом наименьших квадратов.
Если предположить, что все преципитаты сферической формы с радиусом rnp(t), то выпавшая во вторую фазу часть кислорода за время t


которое при длительных временах отжига (при t <*>) будет иметь вид:


Предполагается, что в процессе отжига величина n не изменяется и все частицы второй фазы растут с одинаковой скоростью (т. е. имеют один и тот же размер rnp(t). Совсем не обязательно, чтобы преципитаты были однородно распределены по всему объему кристалла, поскольку градиенты примесной концентрации в матрице существуют лишь вбли­зи границ растущих преципитатов, а диффундирующий атом проделы­вает большой путь в матрице в трех измерениях с малой вероятностью быть захваченным растущей частицей. Следует также отметить, что уравнение (20) описывает рост сферических преципитатов, однако оно



Download 1.39 Mb.

Do'stlaringiz bilan baham:
1   ...   12   13   14   15   16   17   18   19   ...   89




Ma'lumotlar bazasi mualliflik huquqi bilan himoyalangan ©fayllar.org 2024
ma'muriyatiga murojaat qiling