Portal guldu uz-ярим ўтказгичли Қ


 ФОТОШАБЛОН ЁРДАМИДА РАСМ ТУШИРИШ


Download 0.72 Mb.
Pdf ko'rish
bet44/52
Sana08.02.2023
Hajmi0.72 Mb.
#1168671
1   ...   40   41   42   43   44   45   46   47   ...   52
6.3. ФОТОШАБЛОН ЁРДАМИДА РАСМ ТУШИРИШ


80
Фотошаблон – тушириши керак бўлган намуна устидаги шаклнинг акси
(негатив ФР учун) ёки ўзи (позитив ФР учун) кўринишида бўлади.
Фотошаблонни намуна билан устма-уст тушириш ва нурлантириш одатда
бир дастгохда ўтказилади. Фотошаблонни намуна билан устма-уст
тушириш имтиёзли, масъул жараён бўлиб, у ФЛУ аниқлигини белгиловчи
амалдир. Устма-уст тушириш жараёни микроскоп остида ўтказилади. Бу
жараёндан кейин шу жуфтлик ёритилади, бунинг учун асосан контакт
усули қўлланилади. Ёруғлик ФР қатламидан ўтиб қисман ютилади ва ФР
нинг фотосезгир қисмини активлаштиради. Фоторезист ёритилиб
активлаштирилгандан кейин, активлашган (яъни ёруғлик тушган жойлари
(ёки аксинча жойлари) кимёвий усул билан емирилади ва натижада
керакли шакл ҳосил бўлади. Бу жараён «очиш» деб аталади. «Очиш»
(проявка) ботириш ёки пульверизация усули билан бажарилади. Бу
жараёнда назорат қилиш микроскоп остида бажарилади ва берилган
шаклнинг аниқ бўлишига аҳамият берилади. «Очиш» жараёнининг
аниқлиги, унинг
ҳароратига, «очқич
реактив»нинг (проявитель)
концентрациясига ва ёритиш вақтига (экспозицияга) боғликдир.
6.4. МЕТАЛЛ ВА ДИЭЛЕКТРИК қАТЛАМЛАРДА ШАКЛ ҲОСИЛ
қИЛИШ
Юпқа қатламда (металл , диэлектрик ёки ЯЎ) шакл ҳосил қилиш
учун аввалига ФР ёрдамида ниқоб ҳосил қилинади, кейин ФЛУ ни қўллаб
шакл ҳосил қилинади. Бу жараёнда асосий амаллардан бири шакл ҳосил
қилиш учун, химик емириш амалидир. Химик емириш жараёнида, ФР
билан ҳимоя қилинмаган, жойларгина емирилиши керак. Аммо айрим
ҳолларда емирилиш ичкаригагина эмас, балки ён томонга ҳам кетиши
мумкин. Бу эса шаклни қисман бузилишига ва аниқликнинг камайишига
олиб келиши мумкин. Бу жараён асосан танлаб олинган фоторезистнинг
адгезия хусусиятига боғликдир.
Кремний оксиди (SiO
2
) қатламига шаклларни олиш. SiO
2
га олинган ФР
ни емириш учун асосан кимёвий эритмалар ишлатилади. Масалан, 40 %
ли фторли аммонийдан (NH
4
F) 88-91% ҳажмий ва концентрланган 48 %
ли HF дан 9-12 % ли ҳажмий эритма тайёрланади. Емириш тезлиги жараён
ўтказилаётган шароитга қараб 0,04-0,5 мкм/дақиқа бўлиши мумкин.


81
Жуда юпқа қатламларни назоратли емириш учун эса 15 мл 48 % HF, 10 мл
70 % ли HNO
3
, 300 мл H
2
O
таркиб олиниб, емириш суръати 0,012
мкм/дақиқа қилиб олинади.
Алюминий асосидаги қатламларни емириш. Aℓ асосидаги олинган
қатламларни емириш учун кислотали ва ишкорли эритмалардан
фойдаланилади. Асосий емирувчи сифатида ортофосфор кислотаси
олинади. Мисол сифатида қуйидаги таркибни келтирамиз, 80-95 млH
3
PO
4
қ
5 мл HNO
3
қ (1-20 мл) H
2
O
ни 40
о
С да ишлатилганда алюминийнинг
емириш суръати 0,2 мкм/дақиқа бўлади.
қуйидаги жадвалда ҳар хил материалдан бўлган юпқа қатламларни
емириш учун керак бўлган айрим таркиблар рўйхати келтирилган.
қоплама материали
Емирувчи эритма таркиби
Мис
Хлорли темир, аммоний персульфати, Hcℓ, HF
Кумуш
Темир нитрати, KJ ва J нинг сувдаги эритмаси
Олтин
Шох ароги, KJ ва J нингш сувдаги эритмаси
Молибден
Калий ферроцианиди, H
2
SO
4
ва HNO
3
Тантал
Фосфор, 
азот 
ва 
сирка 
кислоталари
аралашмаси
Нихром
Hcℓ
Кремний нитриди H
3
PO
4
ва HF, HNO
3
нинг 70
о
С даги
аралашмаси.
ФЛУ нинг охирги жараёни – қолган жойлардан ФР ни олиб
ташлашдир. ФР ни олиб ташлашнинг бир неча усуллари мавжуд бўлиб,
булардан кислоталарда ишлов бериш, органик эритувчиларни қўллаш,
плазмохимик усуллар кенг қулланилади.
Кислоталар билан ишлов бериб ФР олиб ташлаш 60
о
С гача иситилган
концентрланган сульфат ёки азот кислоталари (ёки уларнинг
аралашмалари) да 5-30 дақиқа давомида олиб борилади. Бу кислоталар


82
қўлланилганда ФР олиб ташланаётган тузилма таркибида шу кислоталар
таъсир қиладиган моддалар бўлмаслиги шарт.
Органик эритувчилар билан ишлов берилганда ( булар қаторига диоксан
диметильформамид, толуол, ксилол, ёки уларнинг аралашмалари кириши
мумкин) ҳароратни 60-100
о
С қилиб олинади ва ишлов бериш вақти
фоторезистнинг маркасига ва унинг қалинлигига қараб 1-15 дақиқа
атрофида олинади. Плазмохимик усул асосан юқори самарадорли
қурилмаларда заводларда ишлатилиши мумкин.

Download 0.72 Mb.

Do'stlaringiz bilan baham:
1   ...   40   41   42   43   44   45   46   47   ...   52




Ma'lumotlar bazasi mualliflik huquqi bilan himoyalangan ©fayllar.org 2024
ma'muriyatiga murojaat qiling