Oxygen in Silicon Single Crystals


Download 1.39 Mb.
bet21/89
Sana10.04.2023
Hajmi1.39 Mb.
#1349265
1   ...   17   18   19   20   21   22   23   24   ...   89
Bog'liq
Oxygen in Silicon Single Crystals ццц

Влияние примеси на подвижность дислокаций
Влияние различных типов примеси на динамическое поведение
дислокаций в кристалле кремния обычно исследуется количественно с
помощью рентгеновской топографии
(in-situ), изучая непосредственно
процесс движения дислокаций.

Скорость движения дислокаций в высокочистом кремнии опреде-
ляется как функция сдвигового напряжения т и температуры Т. Для ин-
тервала напряжений 1-10 МН/м
2 и 600-800°С скорость дислокаций
можно вычислить по эмпирической формуле [95]:

V = Vo T exp( -Eg / kT), (55)
где k - постоянная Больцмана; V0 = 1.0 ■ 104 м3/МН и Eg = 2.20 эВ для
дислокаций 60°;
V0 = 3.5 ■ 104 м3/мн и Eg = 2.35 эВ для винтовой дис-
локации.
Элементы легких примесей (таких, как
углерод, азот и кислород), растворенные в
кремнии, являясь электрически нейтраль-
ными, не влияют на скорость движения
дислокаций при высоких напряжениях. Од-
нако при низких напряжениях эти примеси
оказывают воздействие на динамическое
поведение дислокаций.

В работе [94] получено, что при кон-
центрации растворенного кислорода в
кристалле кремния 7.5 ■ 10
17 см-3 дислока-
ции прекращают свое движение при на-



Рис. 24. Скорость шестидесяти градусных дис-
локаций при 647°С как функция величины нап-
ряжения сдвига в кристаллах кремния с раз-
личным содержанием примеси кислорода [94]:


  1. - [0,] = 1.5 ■ 1017; 2 - 2.5 ■ 1017; 3 - 7.5 ■ 1017;
    4 - 9 ■ 1017 см-3; О - чистый кремний





Н а пряжение сдвига7 МПа


65




Кристалл

Основная легирующая примесь

Концентрация, 1017
см'3

Критическое напря­жение, МН/м2

1

B

210-5

<1.2

2

С

1.0

<1.2

3

N

0.055

4.2

4

P

120

8.5

5

О

1.5

<1.2

6

О

2.5

1.8

7

О

7.5

3.0

8

О

9.0

8.0




JP

60




9



6.0

4.5




JP

150




10



6.0

11.5




Jb

140




011

{о

7.0

5.0


66




Oбобщая вышеприведенные результаты, можно сделать вывод, что в общем случае примеси в кристалле кремния препятствуют движению дислокаций, если они двигаются с малыми скоростями при малых на­пряжениях. В случае больших сдвиговых напряжений электрически ней­тральные и акцепторные примеси не оказывают заметного влияния на скорость дислокаций, в то время как донорные примеси повышают эту скорость. Эти выводы справедливы как для 60°, так и для винтовой дислокации.
Кинетика накопления примесей на дислокациях
Кинетика накопления примесных атомов на дислокации во время отжига обычно определяется путем сравнения теоретического расчета с экспериментальными данными по примесному генерированию дис­локациями.
Скорость изменения примесной концентрации, например кислорода [0,], в поле деформации, создаваемым дислокацией, определяется следующим выражением [95]:
Э[О,-]/at = DoV[V[O,] + ([О,.]/kT)E
t], (56)
где t - время отжига; DO - коэффициент диффузии примеси; Е, - энер­гия взаимодействия атома примеси с дислокацией.
Взаимодействие, которое рассматривается в этом уравнении, име­ет природу упругого взаимодействия, поскольку электростатическое взаимодействие является короткодействующим вследствие эффекта экранирования носителями, которые имеются в достаточном количест­ве при рассматриваемых температурах. Первый член в уравнении (56) соответствует диффузионному потоку, вызванному неоднородностью в распределении примеси, а второй - дрейфовому потоку, обусловлен­ному силе взаимодействия между примесными атомами и дис­локацией.
Если предположить, что дислокация является прямой линией, кото­рая направлена вдоль оси Z, то проблема сводится к двумерной задаче с системой координат (X и Y). Предполагая, что разница в объемах ме­жду размером примесного атома и размером места присоединения в области дислокации характеризуется параметром е, то энергию взаи­модействия атома примеси с дислокацией Е, можно определить по следующей формуле [95]:
Et = 4 / 3 [(1 + v)(1 - v)] ■ еR3 b sinа/y / (x2 + y2 + rf)] , (57)
где v - коэффициент Пуассона; ц - модуль сдвига; а - угол между ли­нией дислокации и вектором Бюргерса; r0 - радиус дислокационного ядра.
Вычисления показывают, что на ранней стадии отжига концентра­ция примесных атомов в поле растяжения вблизи ядра дислокации воз­


67




растает незначительно. С увеличением продолжительности отжига диаметр области, обедненной примесью, возрастает, при этом также возрастает число примесных атомов аккумулированных на ядре дис­локации. На последней стадии отжига примесь в матрице истощается и количество присоединенных атомов уже не изменяется.
Относительная доля атомов примеси (f), накопленных дислокацией, от общего числа атомов примеси в кристалле описывается выражени­ем:
f = К •
tn, (58)
где К - константа, зависящая от температуры, энергии взаимодействия и др. Величина n для ранней стадии отжига (f < 5 • 10-3) не зависит от плотности дислокаций и равна 0.79. При больших продолжительностях отжига п возрастает с увеличением плотности дислокаций (при плотно­стях дислокаций Nd = 1.6 • 109; 6.1 • 109; 9.8 • 1010 см-2 величина n = = 0.89; 0.87; 0.81). На рис. 25 представлены зависимости изменения доли f атомов кислорода в кристалле кремния с длительностью отжига при 900°С. Сплошные линии и точки соответствуют экспериментальным данным, а кривые 1; 4; 9 - теоретические зависимости. Из этого гра­фика видно, что вычисления по формуле (56) достаточно хорошо опи­сывают экспериментальные данные.





Рис. 25. Изменение доли
f атомов кислорода, пре-
ципитированных на дис-
локациях в кристалле
кремния с содержанием
кислорода [О,] =
6 • 1017
см-3 при различных плот-
ностях дислокаций, ука-
занных на рисунке в еди-
ницах (см
-2), как функция
продолжительности от-
жига при 900°С [95]:
1
-
10
6; 2 - 2 106; 3 - 6 106;

  1. - 107; 5 - 1 107;
    6 - 2 • 107; 7 - 5 • 107; 8 -

  1. 108; 9 - 108



Download 1.39 Mb.

Do'stlaringiz bilan baham:
1   ...   17   18   19   20   21   22   23   24   ...   89




Ma'lumotlar bazasi mualliflik huquqi bilan himoyalangan ©fayllar.org 2024
ma'muriyatiga murojaat qiling