O‘zbekiston respublikasi oliy ta’lim, fan va innovatsiyalar vazirligi oliy ta’lim tizimi pedagog va rahbar kadrlarini qayta tayyorlash va ularning malakasini

Akslanishni kamaytiruvchi qatlamlar olish usullari.

Bunday qatlamlar olish usullari xilma-xil bo‘lishiga qaramasdan asosan quyida keltirilgan uch xil usul asosiy bo‘lib hisoblanadi. Bunga sabab ularning imkonliligi va nisbatan qoniqarligidadir.
Vakuumda uchirish usuli bilan akslanishni kamaytiradigan qatlamlar olish. Bu usul bilan deyarli turli xil qatlamlar olish mumkin. Buni biz kremniy monooksidi olish misolida ko‘rib o‘tamiz. Umuman kremniy oksidlari (SiO va SiO₂ lar) mikroelektronikada qo‘llaniladigan asosiy materiallardan hisoblanadi va ularni olish Rasm texnologiyasi ko‘pchilikka ma’lum. Fotoelektrik tizimlarda ular optik parametrlarining to‘g‘ri kelishi nuqtai nazaridan ishlatiladi. Kremniyli QE lari ishlaydigan optik diapazon Er sharoiti uchun bu 0,4-1,1 mkm dir. SHuning uchun antirefleksion qatlam shu diapazonda tushayotgan nurni maksimal o‘tkazish xususiyatiga ega bo‘lishi kerak. Kremniy oksidi aralashmasi SiO_x ning sindirish ko‘rsatkichi 1,6-1,8 ga tengdir. Optika qonunlariga asosan uning qoplamadagi qalinligi 950-1100 ^oA bo‘lishi kerak. Bu monooksidni vakuumda uchirish usuli bilan olish uchun uning maydalangan (0,5-1mm) fraksiyasi olinadi. Akslantirishni kamaytiruvchi qatlam qalinligini nazorat qilish uchun asosiy namunalar bilan birga «yo‘ldosh» namuna ham olinadi va nazorat ishlari «yo‘ldosh» namunada olib boriladi. «Yo‘ldosh» namuna sifatida shaffof materiallar, masalan shisha olinadi. Akslanishni kamaytiruvchi qatlam qalinligi interferensiya hodisasiga asoslanib, interferometri bor bo‘lgan mikroskoplar yordamida aniqlanadi. Bundan tashqari ma’lumotnomalardan olingan jadvallar yordamida olingan oksidning rangiga qarab qalinlikni ma’lum aniqlikda topish mumkin. 25-Rasmda har xil materialdan tayyorlangan akslanishni kamaytiruvchi optik
Rasm. 4. Har xil birikmalar asosidagi qatlamlar olingan kremniydan tayyorlangan quyosh elementlari qaytarish koeffitsientining spektral o‘zgarishi. 1- qatlamsiz; 2 – SiO ( d = 0,15 mkm); 3 – ZnS ( d = 0,15 mkm) + kremniy organik lak (ℓ = 50 mkm); 4 - ZnS ( d = 0,15 mkm) + kremniy organikli kauchuk + shisha plastina (ℓ = 0,5 mm); 5 – ideal sovutilgan hol.qoplamalarning akslanish koeffitsientining tushayotgan yorug‘lik to‘lqin uzunligiga qarab o‘zgarishi keltirilgan.