Зайцев в. Н. Комплексообразующие кремнеземы

1
2
I, см 
-1

---

25 
вплоть до 600

С их абсолютная концентрация на поверхности не изменя-
ется [107] или даже возрастает до 1.8 групп/нм
2 
(рис.1-10) [81].
В ИК спектре кремнезема, прогретого при температуре выше 900

С, 
интенсивность длинноволнового плеча полосы поглощения при 3747 см
-1
падает и центр тяжести полосы смещается к 3750 см
-1
. Авторы [112] счи-
тают, что такое смещение вызвано увеличением доли силандиольных 
групп на поверхности при высоких температурах. Косвенное доказатель-
ство высокой термостабильности силандиольных групп получено и в ра-
боте [90], где анализируются причины снижения степени модифицирова-
ния кремнезема, предварительно прогретого при температуре выше 
600

С. Авторы связывают это с увеличением доли химически инертных 
силандиольных групп. Высокая термостабильность геминальных сила-
нольных групп подтверждена также результатами изучения ЯМР
29
Si 
спектров силикагелей, прогретых при 500

С. В спектрах присутствует по-
лоса, отвечающая поглощению этих групп [105,109,113]. 
В работе [50] приводится достаточно интересное наблюдение. Авто-
ры, с применением спектроскопии 
29
Si ЯМР, исследовали кремнеземы с 
различной геометрией и природой поверхности: аэросил и силикагели с 
площадью поверхности 201 и 460 м
2
/г, которые подвергали термовакуум-
ной обработке в интервале температур 125 – 700

С. Основной вывод ав-
торов состоит в том, что, независимо от температуры и типа кремнезем-
ной матрицы, соотношение между силанольными и силандиольными 
группами постоянно: на каж-
дые девять силанольных групп 
приходится две силандиольные 
(рис. 1-12). Поэтому наличие 
силандиольных групп на по-
верхности кремнезема при вы-
соких температурах можно 
объяснить не их термической 
стабильностью, как считали 
ранее, а существованием рав-
новесия между силанольными 
и силандиольными группами. 
Рис. 1-12. Корреляция между плотностью силандиольных (SiO
3
H
2
) и изолированных 
силанольных (SiO
5/2
H) групп на различных кремнеземах после термовакуумной 
обработке в разных условиях 
r
2
= 0.9219
0.02
0.03
0.04
0.05
0.06
0.07
0.08
0.1
0.2
0.3
0.4
содержане SiO
5/2
H
со
дер
ж
ан
ие 
Si
O
3
H
2

---