Portal guldu uz-ярим ўтказгичли Қ

Расм 18. Диффузия жараёни ўтказишнинг ҳар хил вақтлари учун фосфорнинг кремнийдаги
диффузион профили. (диффузия ўтказиш ҳарорати 950
о
С, диффузия манбаи РОС1
3
, кремний
таглигида киришмалар концентрацияси 2 10
16
см
-3
); с(х) – юзадан х масофадаги фосфор
атомларининг концентрацияси.
ҳосил қилади ва натижада ярим ўтказгичнинг электрофизик хусусияти
кескин ёмонлашади (Мисол, жумладан L, t, µ ва ҳоказолар). Натижада
ярим ўтказгич юзасида хусусиятлари тамоман яроқсиз бўлган «ўлик
қатлам» ҳосил бўлади. Бу қатламнинг хусусиятларини ўзгартириш ва
унинг қалинлигини камайтириш учун қуйидаги амалларни бажариш
керакдир;
-
киришмаларнинг юзадаги концентрациясини чегаралаш,
-
диффузия жараёнини чегараланган қувватли манбадан олиб бориш,
-
киришмаларни икки стадияли усул билан киритиш,
-
юзадаги концентрацион платони кимёвий емириш усули билан олиб
ташлаш.
2.2. ИККИ БОСқИЧЛИ ДИФФУЗИЯ қИЛИШ УСУЛИ

---

60
Икки босқичлили диффузия усули билан киришмалар киритиш
жараёнинг афзаллиги (бу жараён киришмаларни икки босқичда киритади,
«киритиш» ва «тарқатиш» босқичлари) шундан иборатки, «киритиш»
босқичида материалга фақат берилган миқдордагигина киришма унинг юза
қатламларига киритилади. «Тарқатиш» босқичида эса киришмалар
материал ичига диффузия қилинади. Натижада киришмаларнинг намуна
юзасидаги концентрацияси нисбатан камаяди. Бу эса юзадаги
рекомбинацион суръатни камайишига олиб келади. «Киритиш»
босқичининг ҳарорати «тарқатиш» босқичига қараганда пастроқ ҳароратда
олиб борилади.
2.3.ДИФФУЗИОН қАТЛАМЛАР ХУСУСИЯТЛАРИНИ ЎРГАНИШ
Ҳосил
қилинган диффузион
қатламларни ярим
ўтказгичли
тузилмаларда тадбиқ қилиш учун уларнинг хусусиятларини таҳлил қилиш
асосий шартлардандир. Бу хусусиятлар жумласига диффузион қатламнинг
қалинлиги, киришмалар концентрацияси, киришмаларнинг қатламдаги
тақсимоти, қатламнинг электр токига қаршилиги, ундаги асосий бўлмаган
заряд ташувчиларнинг яшаш вақти ва ҳаракатчанлиги, ва
ҳоказолар.
Диффузион қатламлар қалинлигини ўлчаш усуллари жумласига қатламни
бузмасдан (не разруҳаюҳие методў) ва қатламни емириб (разруҳаюҳие)
ўлчаш усуллари киради. қатламни емиришга асосланган усуллар қаторига
шар-шлиф ва қия-шлиф усуллари киради.
Шар-шлиф усули диффузия жараёнидан кейин материал сиртида механик
усул билан шар шаклидаги золдир ёрдамида чуқурча ҳосил қилиб, сўнгра
уни ранг берувчи химик аралашмаларда емириб р-n ўтиш чегарасини
аниқлашдан иборат. Аниқланган чегара оптик микроскопда қалинлиги
(чуқурлиги) ўлчанади ва унинг қиймати диффузион қатлам қалинлигига
тенг деб олинади.
қия-шлиф усули аввалги усулни бир кўриниши бўлиб р-n ўтиш
чегарасигача қия текислик ҳосил қилинади. Бу усулларнинг аниқлиги
золдирнинг диаметрига ва қия текисликнинг қиялигига боғлиқдир.
қатламни бузмасдан
қалинликни
ўлчаш усулларига вольт-сиғим
характеристикани ўлчаш йўли билан қалинликни аниқлаш ва ҳар хил
электрон зонд усуллари киради.

---

61
Киришмалар концентрациясини ўлчаш усуллари. Киришмалар
концентрациясини ўлчаш усуллари кўп бўлиб булардан классик сифатида
фойдаланидиган усуллардан бу Холл усули, Ван дер Пау усули ва вольт-
сиғим усулидир. Бу усуллар ярим ўтказгичли материалдан электр токи ва
магнит майдонининг зарядга бўлаётган таъсир натижасида ҳосил бўлган
электр токи ўтказувчанлигига асослангандир.