Казанский

Контрольные вопросы

1. Принцип действия ВЧ магнетронного распыления.

2. Наблюдаемое на магнетроне свечение – отрицательное свечение или

положительный столб?

3. Рассчитайте амплитуду движения иона в переменном ВЧ поле.

4. Как меняется V зажигания разряда в зависимости от степени напуска

рабочего газа в рабочий объем установки?

5. Преимущества и недостатки по сравнению с магнетронной распыли-

тельной системой на постоянном токе и ВЧ- распылением без магнит-

ного поля.

52

6. Условия существования стабильного разряда.

7. Коэффициент распыления, его зависимость от технологических пара-

метров. Расчет коэффициента распыления.

Задание

1. Изучить устройство и принцип действия ВЧ магнетронной распыли-

тельной системы ВУП-5МВ.

2. Сформировать мишени заданного состава.

3. Освоить порядок технологических операций по нанесению пленок

методом ВЧ магнетронного осаждения на установке ВУП-5МВ.

4. Получить и проанализировать экспериментальную ВАХ ВЧ-

разряда МРС.

5. Получить несколько образцов пленок.

6. Определить толщину пленок, равномерность толщины пленок по по-

верхности, скорость осаждения в зависимости от режимов формиро-

вания.

53

ЛИТЕРАТУРА

1. Райзер Ю.П. «Физика газового разряда» Учеб. руководство для вузов, 2-ое

изд., перераб. идоп., М.: Наука, Гл. ред. физ.-мат. лит. 1992, 536 с.

2. Andrzej Brudnik, Adam Czapla and Witold Posadowski, Studies of me-

dium frequency high power density magnetron sputtering discharges, Va-

cuum, V. 82, Issue 10, 2008, P. 1124-1127

3. Poulopoulos P, Kapaklis V, Politis C, Schweiss P, Fuchs D., Non-

magnetic hexagonal nanocrystalline ni films grown by radio frequency

magnetron sputtering, J. Nanosci Nanotechnol. 2006, Issue 12, p.3867-70.

4. Kaixin Chen, Kin Seng Chiang, Hau Ping Chan and Pak Lim Chu,

Growth of c-axis orientation ZnO films on polymer substrates by radio-

frequency magnetron sputtering, Optical Materials, V. 30, Issue 8, 2008,

P. 1244-1250

5. ДанилинБ. С. Применениенизкотемпературнойплазмыдлянанесениятонких

пленок. М.: Энергоатомиздат, 1989. 327 с.

6. Данилин Б. С, Логунов В. И. Высокочастотное ионное распыление // За-

рубежнаяэлектроннаятехника. 1971. Вып. 3. С. 3-24.

7. Зарянкин Н. М, Логунов В. И. Исследование некоторых особенностей

ВЧ-магнетронных систем // Электронная техника, 1980. Вып. 4 (88). С. 33-

38.

8. Пост вакуумный универсальный ВУП-5М. Техническое описание и инст-

рукцияпоэксплуатации.

54